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氮化硅压力烧结炉

简要描述:

卡箍式炉门快开结构,液压驱动,操作简便。 严格按照国家压力容器标准设计、制造、检验。 合理的加热隔热结构,优良的材质,保证加压及真空状态下炉内温度均匀性。 采用进口原装测温元件,准确测温。 采用计算机实现温度、压力全自动控制,采用PLC实现安全联锁,具有超压、超温、水温过高等声光报警及联锁功能。 采用进口全自动阀门实现全自动压力控制。

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氮化硅压力烧结炉用途:
产品广泛用于:稀土,电子照明,宝石,钢铁,陶瓷,微电子,特种合金,人工晶体,磁性材料,精密铸造,金属热处理等各行业。

氮化硅压力烧结炉简介:
烧结热等静压(Sinter-HIP)技术,简称S-HIP(SIP),等静压烧结技术,也称之为低压烧结或过压烧结,这种工艺方法是将脱蜡、预烧、真空烧结、热等静压制几个工艺合为一道工艺在一个设备内完成的新方法。它是由热等静压技术演变过来的。

型号规格:

产品
型号

加热元
件材质

设备
形式

zui高
充气压力
Mpa

有效
工作区(mm

zui高加热
温度(

zui高
工作
温度

加热
功率
KW

冷态
极限
真空度
Pa

PVSgr-40-2000

石墨

立式

10

Φ100×120

2000

1800

40

10

PVSgr-100-2000

石墨

立式

10

Φ200×250

2000

1800

100

10

PVSgr-200-2300

石墨

立式

10

Φ300×500

2300

2200

200

10

PVSgr-240-2000 石墨 立式 10 Φ400×800 2000 1800 240 10
PVSgr-280-2000 石墨 立式 10 Φ500×1000 2000 1800 280 10

139 1789 8272 138 1685 2761,欢迎客户。

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